ساخت تراشه هایی ۵۰۰۰ برابر نازک تر از تار موی انسان

عاشق وب: یک تکنولوژی جدید ˮلیتوگرافی به وسیله اشعه ماوراء بنفشˮ(EUV) ساختن تراشه های پنج هزار برابر نازک تر از یک تار موی انسان را ممکن می سازد و برنامه هایی مانند رانندگی خودران، شبکه ۵G، هوش مصنوعی و سایر نوآوری های آینده را بهبود می بخشد.
به گزارش عاشق وب به نقل از ایسنا و به نقل از آی ای، بیشتر از ۲۰ سال کار فشرده مشترک طول کشید، اما سرانجام شرکت ها و موسسات تحقیقاتی اروپایی به یک فناوری انقلابی جدید برای تولید انبوه ریزتراشه های قدرتمند عرضه کرده اند که توسط کسانی که در این تجارت هستند، “لیتوگرافی EUV” نامیده می شود.
“EUV” مخفف “extreme ultraviolet” به معنای “اشعه ماوراء بنفش شدید” است و امکان تولید میکروچیپ ها یا ریزتراشه های بسیار قدرتمندتر، کم مصرف تر و مقرون به صرفه تر از گذشته را فراهم می آورد.
این فرایند تولیدی جدید در مقایسه با فرآیندهای لیتوگرافی نوری پیشرو که تابحال با منابع نوری با طول موج ۱۹۳ نانومتر کار شده اند، تنها با طول موج ۱۳.۵ نانومتر کار می کند. این فناوری چشم گیر، شاهد معرفی تراشه های ۵۰۰۰ بار نازک تر از یک تار موی انسان است.
شرکتهای “ASML” و “TRUMPF” یک منبع نوری منحصر به فرد را برای این پروژه طراحی نموده اند که متشکل از یک منبع پلاسمایی است که توسط شرکت “ASML” ساخته شده است و در آن، ۵۰ هزار قطره قلع(روی) در هر ثانیه به یک محفظه خلاء شلیک می شوند و سپس توسط دو پالس متوالی از یک لیزر کربن دی اکسید با قدرت بالا ساخته شده توسط شرکت “TRUMPF” مورد برخورد قرار می گیرند.
دکتر “مارکوس وبر” از شرکای این پروژه در بیانیه مطبوعاتی در مورد این تکنولوژی جدید می گوید: فناوری EUV بعنوان یک نوآوری بزرگ همچنان امکان پیشرفت عمده در دیجیتالی سازی تجارت و جامعه را فراهم می آورد.
این فناوری برنده جایزه نوآوری “Deutscher Zukunftspreis ۲۰۲۰” شده است.
پروفسور “ریموند نوگبائر” مدیر این پروژه می گوید: ما به محققان شرکتهای “ZEISS”، “TRUMPF” و “Fraunhofer IOF” برای کسب این جایزه عالی تبریک می گوییم. در لیتوگرافی EUV، آنها یک فناوری را توسعه داده اند که دیجیتالی سازی را در سطح جهانی فراهم می آورد و با این کار پایه و اساس نوآوری های بعدی را پی ریزی می کنند.
“لیتوگرافی به وسیله اشعه ماوراء بنفش” یکی از روش های تصویرگیری پرتوافکنی است که از اشعه ای با طول موج بین ۱۳٫۴ تا ۱۳٫۵ نانومتر استفاده می نماید. اصول اولیه کارکرد آن شبیه به روش لیتوگرافی نوری با یک سیستم و ماسک است که موج را تابانده و متمرکز می کند. لیتوگرافی پرتوافکنی نوری بیشتر از ۲۰ سال از اصلی ترین راه های تولید قطعات نیمه هادی بوده است. از مدت ها قبل پیشبینی شده بود که لیتوگرافی پرتوافکنی نوری، ظرفیت تولید قطعات با هزینه اقتصادی مناسب را دارد.
در لیتوگرافی پرتوافکنی از ماسک و ماده مقاوم به پرتو استفاده می شود که ماده مقاوم به پرتو ماده ای پلیمری است و در مقابل پرتوی تابیده شده به دو صورت از خود رفتار نشان داده است. یا ماده پلیمری در اثر پرتو نگاری شبکه آن تقویت می شود که در این حالت ماده مقاوم را منفی(Negative) می نامیم و اگر ماده پلیمری بعد از تابش پرتو شبکه آن استقامت خویش را از دست بدهد در این حالت ماده مقاوم به پرتو را مثبت(Positive) می نامیم.